| 氧分压对TiO2薄膜光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 朱昌,刘佳. 氧分压对TiO2薄膜光学性能的影响[J]. 西安工业大学学报, 2008, 28(6) |
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| 作者姓名： | 朱昌 刘佳 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院，白俄罗斯国立无线电信息大学薄膜实验室 |
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| 基金项目： | 外国专家局人才引进项目 |
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| 摘 要： | 为得到光学性能良好、稳定的TiO2薄膜,采用离子束溅射的方法,改变氧分压,在k9玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的TiO2薄膜.采用椭圆偏振光谱仪测试、拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数.薄膜通过400℃退火,利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、结晶和取向进行分析.实验结果发现,随氧分压增加折射率减低,当氧分压达到1.0×10-2Pa时,折射率在2.43附近,变化趋于稳定.氧分压对薄膜的消光系数k影响较大,氧分压高于1.0×10-2Pa时在可见光和近红外区薄膜消光系数近似为0.随氧分压降低,薄膜从(101)向(200)转变.在此氧分压下,得到的薄膜折射率稳定,消光系数相对较小.
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| 关 键 词： | 离子束溅射 氧化钛薄膜 氧分压 光学性能 |
Influence of Oxygen Pressure on the Optical Properties of TiO2 Films Deposited with IBS Ion-assisted Technique |
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| Dmitriy A.Golsoy,Sergey M.Zavatskiy,ZHU Chang,LIU Jia,Dmitriy A.Golsoy,Sergey M.Zavatskiy. Influence of Oxygen Pressure on the Optical Properties of TiO2 Films Deposited with IBS Ion-assisted Technique[J]. Journal of Xi'an Institute of Technology, 2008, 28(6) |
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| Authors: | Dmitriy A.Golsoy Sergey M.Zavatskiy ZHU Chang LIU Jia Dmitriy A.Golsoy Sergey M.Zavatskiy |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion beam sputtering(IBS) TiO2 thin films partial pressure of oxygen optical performance |
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