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聚酰亚胺/氧化硅/氧化铝纳米杂化薄膜的制备及结构与性能研究
引用本文:王伟,刘立柱,杨阳,雷清泉.聚酰亚胺/氧化硅/氧化铝纳米杂化薄膜的制备及结构与性能研究[J].绝缘材料,2005,38(5):11-14.
作者姓名:王伟  刘立柱  杨阳  雷清泉
作者单位:哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,哈尔滨,150040;哈尔滨理工大学电气与电子工程学院,哈尔滨,150040
基金项目:国家自然科学基金重点资助项目(50137010)
摘    要:用溶胶-凝胶法制备了纳米氧化硅(SiO2)及纳米氧化铝(Al2O3)溶胶,并将二者掺入到聚酰胺酸基体中,亚胺化得到聚酰亚胺(PI)/SiO2/Al2O3杂化薄膜,采用红外光谱、原子力显微镜、热失重及阻抗分析仪对薄膜的结构及热性能、介电性能进行表征。结果表明,SiO2和Al2O3粒子呈纳米级均匀分散在薄膜基体中,并且与有机相存在键合;材料的热分解温度有所提高;介电常数随无机含量的增加而增加。

关 键 词:聚酰亚胺薄膜  二氧化硅  三氧化二铝  溶胶-凝胶法  杂化薄膜
文章编号:1009-9239(2005)05-0011-04
修稿时间:2005年8月31日
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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