| 接近式光刻的计算机模拟研究 |
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| 引用本文： | 田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J].微纳电子技术,2003(Z1). |
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| 作者姓名： | 田学红 刘刚 田扬超 张新夷 张鹏 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 安徽合肥230029
(田学红，刘刚，田扬超)，复旦大学同步辐射研究中心 上海200433
(张新夷)，中国科学技术大学国家同步辐射实验室 安徽合肥230029(张鹏) |
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| 摘 要： | 分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源 ,并根据光的标量衍射理论 ,对菲涅耳近似模型进行了修正 ,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型 ;并对这两种模型的模拟结果进行了比较
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| 关 键 词： | 接近式光刻 菲涅耳衍射 计算机模拟 |
Study on computer simulation of proximity lithography |
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| TIAN Xue hong ,LIU Gang ,TIAN Yang chao ,ZHANG Xin yi ,ZHANG Peng.Study on computer simulation of proximity lithography[J].Micronanoelectronic Technology,2003(Z1). |
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| Authors: | TIAN Xue hong LIU Gang TIAN Yang chao ZHANG Xin yi ZHANG Peng |
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| Affiliation: | TIAN Xue hong 1,LIU Gang 1,TIAN Yang chao 1,ZHANG Xin yi 2,ZHANG Peng 1 |
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| Abstract: | The computer simulation of proximity lithography is investigated in this paper. Comparing with the Fresnel diffraction model, a more accurate model is constructed depending on the scalar diffraction theory of light propagation. The differences of two models are given in this paper. |
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| Keywords: | proximity lithography Fresnel diffraction computer simulation |
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