| Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能 |
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| 引用本文： | 曹颖,葛洪良,卫国英,余云丹,楼俊尉,孟祥凤.Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能[J].电镀与环保,2013,33(5):28-30. |
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| 作者姓名： | 曹颖 葛洪良 卫国英 余云丹 楼俊尉 孟祥凤 |
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| 作者单位： | 中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州,310018 |
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| 摘 要： | 研究了电流密度和温度对电沉积Ni-Co薄膜形貌、晶体结构及磁性能的影响。结果表明:随着电流密度的增加,Ni-Co薄膜的比饱和磁化强度先增大后减小,在200A/m2时达到最大值;电流密度对薄膜的结晶度和晶粒尺寸均有影响;在较高温度下制备的薄膜表面较粗糙,这是由于温度的升高致使析氢加剧。
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| 关 键 词： | Ni-Co 恒电流 电化学沉积 磁性能 比饱和磁化强度 |
Electrochemical Deposition and Magnetic Properties of Ni-Co Magnetic Film |
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| CAO Ying
,
GE Hong-liang
,
WEI Guo-ying
,
YU Yun-dan
,
LOU Jun-wei
,
MENG Xiang-feng.Electrochemical Deposition and Magnetic Properties of Ni-Co Magnetic Film[J].Electroplating & Pollution Control,2013,33(5):28-30. |
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| Authors: | CAO Ying GE Hong-liang WEI Guo-ying YU Yun-dan LOU Jun-wei MENG Xiang-feng |
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| Affiliation: | CAO Ying;GE Hong-liang;WEI Guo-ying;YU Yun-dan;LOU Jun-wei;MENG Xiang-feng;College of Materials Science and Engineering,China Jiliang University; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ni-Co constant current electrochemical deposition magnetic property specific saturation magnetization |
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