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| 衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响 | |
| 引用本文： | 周阳,仇满德,赵庆勋,李晓红,彭英才,刘保亭.衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响[J].功能材料,2009,40(5). |
| 作者姓名： | 周阳 仇满德 赵庆勋 李晓红 彭英才 刘保亭 |
| 作者单位： | 1. 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 2. 河北大学,化学与环境科学学院,河北,保定,071002 3. 河北大学,电子信息工程学院,河北,保定,071002 |
| 基金项目： | 国家重点基金研究发展计划(973计划)前期专项资助项目(2007CB616910);;国家自然科学基金资助项目(50572021);;河北省自然科学基金资助项目(E2008000620,A2005000090);;河北大学青年基金资助项目(2005Q08) |
| 摘 要： | 在不同的衬底温度下,采用磁控溅射方法在蓝宝石(0001)衬底上制备了外延生长的ZnO薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、可见-紫外分光光度计系统研究了衬底温度对ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响.AFM结果表明在不同村底温度制备的ZnO薄膜具有较为均匀的ZnO晶粒,且晶粒的尺寸随衬底温度的增加逐渐增大.XRD结果显示不同温度生长的ZnO薄膜均为外延生长,400℃生长的薄膜具有最好的结晶质量;光学透射谱显示在370nm附近均出现一个较陡的吸收边,表明制备的ZnO薄膜具有较高的质量,其光学能带隙随着衬底温度的增加而减小. |
| 关 键 词： | ZnO薄膜 射频磁控溅射 衬底温度 外延生长 |
Influence of substrate temperature on structure of ZnO films fabricated by RF magnetron sputtering |
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| ZHOU Yang , QIU Man-de , ZHAO Qing-xun , LI Xiao-hong , PENG Ying-cai , LIU Bao-ting.Influence of substrate temperature on structure of ZnO films fabricated by RF magnetron sputtering[J].Journal of Functional Materials,2009,40(5). | |
| Authors: | ZHOU Yang QIU Man-de ZHAO Qing-xun LI Xiao-hong PENG Ying-cai LIU Bao-ting |
| Affiliation: | 1.College of Physics Science and Technology;Hebei University;Baoding 071002;China;2.College of Chemistry & Environmental Science;3.College of Electronic and Information Engineering;China |
| Abstract: | |
| Keywords: | ZnO film RF magnetron sputtering substrate temperature epitaxial growth |
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