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红外焦平面阵列基于黑体的非均匀性校正方法中的限制因素
引用本文:刘会通,易新建,刘靖,徐隆.红外焦平面阵列基于黑体的非均匀性校正方法中的限制因素[J].红外技术,2003,25(3):41-44.
作者姓名:刘会通  易新建  刘靖  徐隆
作者单位:1. 华中科技大学光电子工程系,湖北,武汉,430074
2. 华中科技大学图像识别与人工智能研究所,湖北,武汉,430074
基金项目:华中科技大学博士后科研专项基金资助项目代号AA182 0 0 7
摘    要:以基本的红外辐射理论为依据,阐述了红外焦平面阵列非均匀性校正的物理原理,首次综合性地论述了标定类方法所存在的三个基本限制因素,并重点给出了红外焦平面阵列响应漂移的实验结果。

关 键 词:红外焦平面阵列  非均匀性校正  响应漂移  黑体  限制因素
文章编号:1001-8891(2003)03-0041-04
修稿时间:2002年12月4日

Limitations of Blackbody-Based Nonuniformity Correction for IRFPA
LIU Hui tong ,YI Xin jian ,LIU Jing ,XU Long.Limitations of Blackbody-Based Nonuniformity Correction for IRFPA[J].Infrared Technology,2003,25(3):41-44.
Authors:LIU Hui tong  YI Xin jian  LIU Jing  XU Long
Affiliation:LIU Hui tong 1,YI Xin jian 2,LIU Jing 1,XU Long 2
Abstract:The physical theory of nonuniformity correction for infrared focal plane array, and summerized three basic limitations to black based nonuniformity correction for the first time. was described the experimental results of response drift of IRFPA were analyzed and verified emphatically.
Keywords:infrared focal plane array (IRFPA)    nonuniformity correction (NUC)    response drift
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