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低压应用的高性能甚高频功率VDMOSFETs
引用本文:刘英坤,梁春广,邓建国,张颖秋,郎秀兰,李思渊. 低压应用的高性能甚高频功率VDMOSFETs[J]. 半导体学报, 2001, 22(8): 975-978
作者姓名:刘英坤  梁春广  邓建国  张颖秋  郎秀兰  李思渊
作者单位:[1]兰州大学物理系,兰州730000 [2]河北半导体研究所,石家庄050051
摘    要:采用梯形栅结构和难熔金属钼栅工艺 ,研制出了高性能 ,低电压工作 ,适用于移动通信的甚高频功率VDMOS场效应晶体管 .该器件在 175 MHz、 12 V低电压工作条件下 ,输出功率为 12 W,漏极效率为 70 % ,功率增益为 12 d B

关 键 词:低压   梯形栅结构   钼栅工艺   甚高频功率VDMOSFET
文章编号:0253-4177(2001)08-0975-04
修稿时间:2001-01-05

High Performance VHF Power VDMOSFETs for Low Voltage Applications
LIU Ying-kun ,,LIANG Chun-guang ,DENG Jian-guo ,ZHANG Ying-qiu ,LANG Xiu-lan and LI Si-yuan. High Performance VHF Power VDMOSFETs for Low Voltage Applications[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2001, 22(8): 975-978
Authors:LIU Ying-kun     LIANG Chun-guang   DENG Jian-guo   ZHANG Ying-qiu   LANG Xiu-lan   LI Si-yuan
Affiliation:LIU Ying-kun 1,2,LIANG Chun-guang 2,DENG Jian-guo 2,ZHANG Ying-qiu 2,LANG Xiu-lan 2 and LI Si-yuan 1
Abstract:A high performance VHF power VDMOSFET,ap plying to the mobile communications,is developed,which can deliver an output power of 12W with the drain efficiency of 70% as well as the gain of 12dB at a low supply voltage of 12V and 175MHz.It is fabricated by using the terraced gat e structure and refractory molybdenum (Mo) gate technology.
Keywords:low voltage  terraced gate structure  Mo gate te chnology  VHF power VDMOSFET
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