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| JK—1型半自动接近式光刻机对准台的研制 | |
| 引用本文： | 谢传钵.JK—1型半自动接近式光刻机对准台的研制[J].光电工程,1981(5). |
| 作者姓名： | 谢传钵 |
| 摘 要： | 集成电路的光刻除首次光刻不需要对准外,以后每次光刻都要求掩模图形与前一次光刻在硅片上的图形精确对准。对准时既要防止掩模与硅片之间的接触损伤和磨损掩模,又只允许亚微米级的对准误差。这就要 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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