| 立方氮化硼薄膜表面的XPS研究 |
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| 引用本文： | 邓金祥,陈浩,陈光华,刘钧锴,宋雪梅,朱秀红,王波,严辉.立方氮化硼薄膜表面的XPS研究[J].功能材料,2004,35(Z1):3187-3189. |
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| 作者姓名： | 邓金祥 陈浩 陈光华 刘钧锴 宋雪梅 朱秀红 王波 严辉 |
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| 作者单位： | 1. 北京工业大学,应用数理学院,北京,100022
2. 北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60376007) |
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| 摘 要： | 研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比11;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比11较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.
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| 关 键 词： | 立方氮化硼薄膜 表面 X射线光电子能谱 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-3187-03 |
| 修稿时间： | 2004年5月23日 |
XPS study of cubic boron nitride thin films |
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| DENG Jin-xiang,CHEN Hao,CHEN Guang-hua,LIU Jun-kai,SONG Xue-mei,ZHU Xiu-hong,WANG Bo,YAN Hui.XPS study of cubic boron nitride thin films[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3187-3189. |
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| Authors: | DENG Jin-xiang CHEN Hao CHEN Guang-hua LIU Jun-kai SONG Xue-mei ZHU Xiu-hong WANG Bo YAN Hui |
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