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| PYREX玻璃湿法凹槽腐蚀研究 | |
| 引用本文： | 林雁飞,郑志霞,张丹,冯勇建.PYREX玻璃湿法凹槽腐蚀研究[J].微纳电子技术,2005,42(1):33-36. |
| 作者姓名： | 林雁飞 郑志霞 张丹 冯勇建 |
| 作者单位： | 1. 厦门大学机电工程系,福建,厦门,361005 2. 厦门大学机电工程系,福建,厦门,361005;莆田学院机电系,福建,莆田,351100 3. 厦门大学萨本栋微机电中心,福建,厦门,361005 |
| 摘 要： | 在玻璃上刻蚀凹槽作为腔体,是半导体制造工艺中一个新方法。本文讨论了玻璃湿法腐蚀的工艺方法,通过清洗、涂胶、光刻、腐蚀等工艺的反复实验,分析了涂胶厚度与甩胶速率的关系,腐蚀深度随腐蚀时间的变化情况,并总结出玻璃刻蚀过程中的重要参数和注意事项。 |
| 关 键 词： | PYREX玻璃 湿法腐蚀 曝光 |
| 文章编号： | 1671-4776(2005)01-0033-04 |
| 修稿时间： | 2004年5月26日 |
Research of Wet-Etching Groove on PYREX Glass |
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| LIN Yan-feia,ZHENG Zhi-xiaa,ZHANG Dana,FENG Yong-jianb.Research of Wet-Etching Groove on PYREX Glass[J].Micronanoelectronic Technology,2005,42(1):33-36. | |
| Authors: | LIN Yan-feia ZHENG Zhi-xiaa ZHANG Dana FENG Yong-jianb |
| Affiliation: | LIN Yan-fei1a,ZHENG Zhi-xia1a,2,ZHANG Dan1a,FENG Yong-jian1b |
| Abstract: | Etching a groove as a cavity on a glass is a new method in semiconductor technology. Wet etching technology of glass is discussed. With many experiments such as cleaning,coating,lithography and so on,the relations of photoresists thickness depends on the rotate speed of coating,etching depth depended on etching time are analyzed. And the important parameters and the key proceedings are given. |
| Keywords: | PYREX glass wet-etching lithography |
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