微纳米尺度薄膜/基底材料残余应力研究进展 |
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引用本文: | 王月敏,李新刚,李垚,豆书亮,王雷.微纳米尺度薄膜/基底材料残余应力研究进展[J].哈尔滨工程大学学报,2023(5):717-723. |
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作者姓名: | 王月敏 李新刚 李垚 豆书亮 王雷 |
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作者单位: | 1. 深圳大学物理与光电工程学院;2. 深圳大学材料学院;3. 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所;4. 江西省建工集团有限责任公司 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(22075185,51902073,51773118); |
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摘 要: | 残余应力是功能失效的主要原因,它可能导致薄膜形状发生重大变化,甚至产生分层、屈曲和裂纹。这不仅会破坏器件的结构完整性,而且直接影响到薄膜光学、电学、力学等物理性质,导致严重缩短使用寿命。为了研究薄膜特征参数与残余应力的关系,本文首先概述了微纳米尺度薄膜/基底体系中残余应力的机理模型及测试方法。然后,在单层膜领域,综述了沉积条件、薄膜厚度、工艺参数(溅射功率、工作压力、基底温度、退火状态)等因素对薄膜残余应力的影响;在多层膜领域,介绍了调制周期、缓冲层对薄膜残余应力分布的作用。最后展望了薄膜/基底体系残余应力研究的发展方向,指出应该从机理模型、应力分布规律以及探索功能材料的残余应力等方向开展研究。
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关 键 词: | 残余应力 单层膜 多层膜 调制周期 应力释放 应力控制 磁控溅射 |
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