|
|||||
|
|
| 新型相变材料Ti0.5Sb2Te3刻蚀工艺及其机理研究 | |
| 作者姓名： | 张徐 刘波 宋三年 姚栋宁 朱敏 饶峰 吴良才 宋志棠 封松林 |
| 作者单位： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室;中国科学院大学 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(2010CB934300,2011CBA00607);国家自然科学基金(61006087,61076121,61076122,61106001);上海市科委(12nm0503701)~~ |
| 摘 要： | 采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3(TST)的刻蚀特性,重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF4/Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明,当气体总流量为50 sccm、CF4浓度为26%﹑刻蚀功率为400 W和刻蚀压力为13.3 Pa时,刻蚀速度达到126 nm/min,TST薄膜刻蚀图形侧壁平整而且垂直度好(接近90°)﹑刻蚀表面平整(RMS为0.82 nm)以及刻蚀的片内均匀性等都非常好。 |
| 关 键 词： | 新型相变材料 干法刻蚀 CF4+Ar气体 刻蚀速度 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |