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| 气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 | |
| 引用本文： | 马胜利,徐可为,介万奇.气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评[J].真空科学与技术学报,2002,22(6):438-443. |
| 作者姓名： | 马胜利 徐可为 介万奇 |
| 作者单位： | 1. 西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049 2. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049 3. 西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072 |
| 基金项目： | 国家 8 63计划 (2 0 0 1AA883 0 10 )，国家自然科学基金项目 (5 0 2 710 5 3 ) |
| 摘 要： | 本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势、进展及其在工模具领域的应用 |
| 关 键 词： | 气相沉积技术 硬质薄膜 PCVD |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)06-0438-06 |
| 修稿时间： | 2002年2月4日 |
Review of Growth of PCVD Hard Coatings and Its Applications |
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| Abstract: | The latest progress of thin hard films grown by vapor deposition was reviewed.Discussion focused on the many advantages and the industrial applications of plasma enhanced chemical vapor deposition(PCVD) in surface modification of various type of dies and cutting tools. |
| Keywords: | Vapor deposition technique Thin hard film PCVD |
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