| 低温下磁控溅射AIN薄膜择优取向研究 |
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| 引用本文： | 杨杰,马晋毅,杜波,徐阳,石玉.低温下磁控溅射AIN薄膜择优取向研究[J].压电与声光,2013,35(2). |
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| 作者姓名： | 杨杰 马晋毅 杜波 徐阳 石玉 |
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| 作者单位： | 1. 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054
2. 中国电子科技集团公司第26研究所,重庆,400060 |
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| 摘 要： | 研究了衬底温度从-20～20℃下射频磁控溅射A1N薄膜的择优取向程度.利用X线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和场发射电子显微镜(FESEM)对A1N薄膜的晶体结构、租糙度及表面和断面形貌进行了分析.研究结果表明,当衬底温度低于0℃时,AIN薄膜中的(100)衍射峰消失,A1N薄膜以(002)面择优取向生长.当衬底温度降低时,AIN薄膜的晶粒大小和表面粗糙度减小.AIN薄膜在0℃下沉积具有最佳的择优取向程度和较低的表面粗糙度.
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| 关 键 词： | AIN薄膜 衬底温度 结构 形貌 |
Study on Preferential Orientation of RF Magnetron Sputtered AIN Films at Low Substrate Temperature |
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| YANG Jie
,
MA Jinyi
,
DU Bo
,
XU Yang
,
SHI Yu.Study on Preferential Orientation of RF Magnetron Sputtered AIN Films at Low Substrate Temperature[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2013,35(2). |
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| Authors: | YANG Jie MA Jinyi DU Bo XU Yang SHI Yu |
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