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表面覆盖退火对ZnO薄膜光学性质的影响
引用本文:王立,蒲勇,方文卿,莫春兰,熊传兵,江风益.表面覆盖退火对ZnO薄膜光学性质的影响[J].半导体学报,2006,27(3):409-412.
作者姓名:王立  蒲勇  方文卿  莫春兰  熊传兵  江风益
作者单位:南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047
摘    要:研究了暴露在空气中退火和表面覆盖蓝宝石基板退火对MOCVD生长的ZnO薄膜光学性质的影响.研究发现,暴露在空气中退火虽可以去除薄膜中的氢杂质,并在低温光致发光(PL)谱中观察到与氢相关的束缚激子峰消失,但是退火后样品室温PL谱中可观察到很强的可见光发射,表明样品中引入了大量的深能级,样品的自由激子发光没有增强.而表面覆盖蓝宝石基板退火的样品,有效去除了氢杂质,但没有观察到可见光发射,说明表面覆盖蓝宝石基板退火可以有效地保护ZnO表面不分解,不生成深能级中心.由于激子束缚中心的减少,表面覆盖退火样品的自由激子发射大大增强.

关 键 词:氧化锌  退火  光学性质  激子
文章编号:0253-4177(2006)03-0409-04
收稿时间:10 31 2005 12:00AM
修稿时间:12 26 2005 12:00AM

Effect of Surface-Covered Annealing on the Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD
Wang Li,Pu Yong,Fang Wenqing,Mo Chunlan,Xiong Chuanbing,Jiang Fengyi.Effect of Surface-Covered Annealing on the Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(3):409-412.
Authors:Wang Li  Pu Yong  Fang Wenqing  Mo Chunlan  Xiong Chuanbing  Jiang Fengyi
Affiliation:Engineering Research Center for Luminescent Materials and Devices of the Education Ministry Nanchang University , Nanchang 330047, China
Abstract:
Keywords:zinc oxide  annealing  optical properties  exciton
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