| 表面覆盖退火对ZnO薄膜光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 王立,蒲勇,方文卿,莫春兰,熊传兵,江风益. 表面覆盖退火对ZnO薄膜光学性质的影响[J]. 半导体学报, 2006, 27(3): 409-412 |
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| 作者姓名： | 王立 蒲勇 方文卿 莫春兰 熊传兵 江风益 |
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| 作者单位： | 南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047;南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047 |
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| 摘 要： | 研究了暴露在空气中退火和表面覆盖蓝宝石基板退火对MOCVD生长的ZnO薄膜光学性质的影响.研究发现,暴露在空气中退火虽可以去除薄膜中的氢杂质,并在低温光致发光(PL)谱中观察到与氢相关的束缚激子峰消失,但是退火后样品室温PL谱中可观察到很强的可见光发射,表明样品中引入了大量的深能级,样品的自由激子发光没有增强.而表面覆盖蓝宝石基板退火的样品,有效去除了氢杂质,但没有观察到可见光发射,说明表面覆盖蓝宝石基板退火可以有效地保护ZnO表面不分解,不生成深能级中心.由于激子束缚中心的减少,表面覆盖退火样品的自由激子发射大大增强.
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| 关 键 词： | 氧化锌 退火 光学性质 激子 |
| 文章编号： | 0253-4177(2006)03-0409-04 |
| 收稿时间： | 2005-10-31 |
| 修稿时间： | 2005-12-26 |
Effect of Surface-Covered Annealing on the Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD |
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| Wang Li,Pu Yong,Fang Wenqing,Mo Chunlan,Xiong Chuanbing,Jiang Fengyi. Effect of Surface-Covered Annealing on the Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2006, 27(3): 409-412 |
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| Authors: | Wang Li Pu Yong Fang Wenqing Mo Chunlan Xiong Chuanbing Jiang Fengyi |
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| Affiliation: | Engineering Research Center for Luminescent Materials and Devices of the Education Ministry Nanchang University , Nanchang 330047, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | zinc oxide annealing optical properties exciton |
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