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| 等离子体技术对N,N-二甲基甲酰胺的去除研究 | |
| 作者姓名： | 石林 陈作雁 郭晋 安兴才 |
| 摘 要： | 采用一种气液两相介质阻挡放电等离子体技术对二甲基甲酰胺(DMF)进行处理,并研究了优化工作条件.结果 表明,初始DMF含量、电导率和pH对DMF的处理效果影响比循环流量和气流量大.在实验装置工作电压为14 kV、频率为20 kHz下,质量浓度213 mg/L的DMF水溶液经60 min的处理,DMF的降解率和TOC去除... |
| 关 键 词： | 二甲基甲酰胺 介质阻挡放电 等离子体 去除 |
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