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MEMS中多孔硅绝热技术
引用本文:窦雁巍,胡明,宗杨,崔梦.MEMS中多孔硅绝热技术[J].纳米技术与精密工程,2005,3(2):106-111.
作者姓名:窦雁巍  胡明  宗杨  崔梦
作者单位:天津大学电子信息工程学院,天津,300072;天津大学电子信息工程学院,天津,300072;天津大学电子信息工程学院,天津,300072;天津大学电子信息工程学院,天津,300072
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60371030),天津自然科学基金资助项目(043600811).
摘    要:主要介绍了多孔硅的制备方法(化学法、电化学法及原电池法等)、多孔硅导热系数测试的几种常用手段(温度传感器法、显微拉曼散射法及光声法等)、导热系数的理论模型及影响因素.此外,采用不同方法制备了多孔硅样品,分析了其表面形貌并用显微拉曼光谱法测定了导热系数.结果发现,化学法制备的多孔硅孔径尺寸大于微米量级,而利用大孔硅电化学和原电池法得到的样品孔径尺寸小(约20nm),属于介孔硅.由于腐蚀条件的不同,多孔硅的孔隙率和厚度也不同,多孔硅的导热系数随孔隙率和厚度的增大而迅速减小.

关 键 词:多孔硅  热绝缘  导热系数  微机电系统
文章编号:1672-6030(2005)02-0106-06
修稿时间:2005年4月25日

Porous Silicon Thermal Isolation Technology of MEMS
DOU Yan-wei,HU Ming,ZONG Yang,CUI Meng.Porous Silicon Thermal Isolation Technology of MEMS[J].Nanotechnology and Precision Engineering,2005,3(2):106-111.
Authors:DOU Yan-wei  HU Ming  ZONG Yang  CUI Meng
Abstract:
Keywords:porous silicon  thermal isolation  temperature conductivity  MEMS
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