| 底面对准曝光中的对准技术研究 |
| |
| 引用本文： | 陈兴俊,胡松,姚汉民,刘业异. 底面对准曝光中的对准技术研究[J]. 微细加工技术, 2002, 0(3): 36-39 |
| |
| 作者姓名： | 陈兴俊 胡松 姚汉民 刘业异 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
| |
| 摘 要： | 主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工作台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择。
|
| 关 键 词： | 光刻机 底面对准 工件台 对准标记 |
| 文章编号： | 1003-8213(2002)03-0036-04 |
| 修稿时间： | 2002-04-22 |
A Study on Bottom Side Alignment Technique in Lithography |
| |
| CHEN Xing?jun,HU Song,YAO Han?min,LIU Ye?yi. A Study on Bottom Side Alignment Technique in Lithography[J]. Microfabrication Technology, 2002, 0(3): 36-39 |
| |
| Authors: | CHEN Xing?jun HU Song YAO Han?min LIU Ye?yi |
| |
| Abstract: | The principle of bottom side alignment,the stage structure and the selection of the shape and size of the alignment mark are discussed. |
| |
| Keywords: | lithography system bottom side alignment stage alignment mark |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
