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| 低氰脉冲光亮镀金工艺研究 | |
| 引用本文： | 王新权,黄高山,梁英. 低氰脉冲光亮镀金工艺研究[J]. 电镀与涂饰, 2003, 22(3): 41-43 |
| 作者姓名： | 王新权 黄高山 梁英 |
| 作者单位： | 湖南轻工研究院有限责任公司,长沙,410015 |
| 摘 要： | 开发出一种低氰脉冲光亮镀金工艺。研究了工艺条件对其镀层性能的影响。本工艺具有施镀电流密度范围宽、镀液稳定可靠以及镀层性能优越等特点。 |
| 关 键 词： | 低氰 脉冲 光亮镀金工艺 |
| 文章编号： | 1004-227X(2003)03-0041-03 |
Study of low cyanide bright gold plating process with pulse current |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Low cyanide pulse current bright gold plating process |
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