两种方法获得的高硅铁合金的磁化率不适应性及Mssbauer研究 |
| |
引用本文: | 王东.两种方法获得的高硅铁合金的磁化率不适应性及Mssbauer研究[J].电工材料,2000(1). |
| |
作者姓名: | 王东 |
| |
摘 要: | 本文对带状(快速淬火法获得)和片状(用化学气相沉积法制各)铁基6.5%Si试样的显微结构和软磁特性,即初始磁化率及其不适应性进行了研究。研究是试样在1373K退火1小时后在炉内或冰水中冷却至室温下进行的。结果表明,试样在炉内冷却,出现50%的B2超结构。然而,高速冷却导致硅原子小范围内有序化。与此同时,在水中冷却试样呈现出较好的软磁性,即,低稳定域和不适应性增强,以及较高的初始导磁率。
|
关 键 词: | 高硅—铁合金 不适应性 M■ssbauer光谱 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|