| 采用AlN缓冲层在Si(111)衬底上生长GaN的形貌 |
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| 引用本文： | 刘喆,王晓亮,王军喜,胡国新,李建平,曾一平,李晋闽.采用AlN缓冲层在Si(111)衬底上生长GaN的形貌[J].半导体学报,2007,28(Z1):230-233. |
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| 作者姓名： | 刘喆 王晓亮 王军喜 胡国新 李建平 曾一平 李晋闽 |
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| 作者单位： | 刘喆（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;王晓亮（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;王军喜（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;胡国新（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;李建平（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;曾一平（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083）;李晋闽（中国科学院半导体研究所,材料科学中心,北京,100083） |
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| 基金项目： | 中国科学院知识创新工程项目
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国家自然科学基金
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国家重点基础研究发展计划(973计划) |
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| 摘 要： | 针对Si衬底上生长GaN具有的特有形貌进行了研究,分析采用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)等手段,研究了使用AlN作为缓冲层的GaN的生长模式、缺陷形成机理、应力释放机制.并且发现缓冲层厚度和外延层生长温度对裂纹和表面缺陷的形成有很大的影响.
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| 关 键 词： | Si衬底 AlN缓冲层 GaN 形貌 缺陷 |
| 文章编号： | 0253-4177(2007)S0-0230-04 |
| 修稿时间： | 2006年12月12 |
Morphology of GaN Film on Si(111)Substrate Using AlN Buffer |
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| Liu Zhe,Wang Xiaoliang,Wang Junxi,Hu Guoxin,Li Jianping,Zeng Yiping,Li Jinmin.Morphology of GaN Film on Si(111)Substrate Using AlN Buffer[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(Z1):230-233. |
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| Authors: | Liu Zhe Wang Xiaoliang Wang Junxi Hu Guoxin Li Jianping Zeng Yiping Li Jinmin |
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