| 光栅印制机总体设计与关键技术研究 |
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| 引用本文： | 张光弢,高有行,李翠敏.光栅印制机总体设计与关键技术研究[J].自动化技术与应用,2004,23(10):57-60. |
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| 作者姓名： | 张光弢 高有行 李翠敏 |
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| 作者单位： | 西安电子科技大学,计算机外部设备研究所,陕西,西安,710071;西安电子科技大学,计算机外部设备研究所,陕西,西安,710071;西安电子科技大学,计算机外部设备研究所,陕西,西安,710071 |
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| 摘 要： | 光栅是一种高精度的定位检测技术，根据大幅面喷墨绘图机喷墨定位检测技术的需要，本文提出了透射式光栅印制机的总体设计思想，包括透射式光栅印制机机械设计、电气设计、控制程序设计，并对关键技术进行了分析，给出了可行性解决方案。
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| 关 键 词： | 光栅 定位精度 曝光 |
| 文章编号： | 1003-7241(2004)10-0057-04 |
| 修稿时间： | 2004年3月20日 |
Conceptual Design and Key Technology of the Grating Duplicating Machine |
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| ZHANG Guang-tao,GAO You-xing,LI Cui-min.Conceptual Design and Key Technology of the Grating Duplicating Machine[J].Techniques of Automation and Applications,2004,23(10):57-60. |
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| Authors: | ZHANG Guang-tao GAO You-xing LI Cui-min |
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| Abstract: | Grating is one method for high precision measurement. According to the requireme nt of large-format inkiet plotter, a conceptual design for transmissio n grating duplicating machine which involves the mechanical system design,the e lectrical system design and the control software are discussed in this pa per, and the key technology are also described in this paper. |
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| Keywords: | Grating Accuracy of positioning Exposal |
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