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杂志ISSN号
活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al2O3、ZnO掺杂和In2O3:Mo薄膜的应用(下)
作者姓名:
范崇治
殷志强
作者单位:
清华大学
摘 要:
透明导电氧化物薄膜,例如SnO2、ITO、ZnO,有很多应用,如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶,它含有ZnO和2%(重量比)Al2O3,无论如何靶的代价是过高的,而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn:Al靶受到关注,虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属/氧化物过渡模式。
关 键 词:
ZnO
Al2O3
In2O3
透明导电氧化物薄膜
阴极溅射
Mo薄膜
应用
掺杂
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