|
|||||
|
|
| 双层介质膜的辐照效应 | |
| 引用本文： | Kikuo Watanabe,王季茂.双层介质膜的辐照效应[J].微电子学,1987(5). |
| 作者姓名： | Kikuo Watanabe 王季茂 |
| 作者单位： | 日立公司 |
| 摘 要： | 作者研究了在辐射加固的Si器件中用于Si表面钝化的双层介质膜。与称为双层SiO_2膜的CVD-SiO_2/SiO_2膜相比,Si_3N_4/SiO_2和PSG/SiO_2双层介质膜表现出对电离辐射具有较低的灵敏度。然面,Si_3N_4/SiO_2和PSG/S_1O_2膜比双层SiO_2膜表现出大得多的初始界面态密度。作者还研究了后氧化退火对辐射引起的界面态的影响。采用了双层SiO_2膜来实现辐射容限大于1兆拉德(硅)的IIL器件。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |