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| 添加少量Ni,Ti,C对溅射钨涂层氧化行为的影响 | |
| 引用本文： | 潘会波.添加少量Ni,Ti,C对溅射钨涂层氧化行为的影响[J].稀有金属快报,2000(5):16-17. |
| 作者姓名： | 潘会波 |
| 摘 要： | 葡萄牙的科研人员采用反应磁控溅射工艺进行研究，具体工艺多数为：功率密度１０Ｗ／ｃｍ２，负偏压为７０Ｖ，靶材分别用Ｗ、Ｗ－１０％Ｔｉ、Ｗ－１０％Ｎｉ（质量百分比），ＣＨ４／Ａｒ分压比为１／５，真空室压力为１０－４Ｐａ．涂前基体表面用离子轰击清洗．开始时，表面加热到４５０℃，然后用Ａｒ~＋轰击８ｍｉｎ（离子枪在２０Ａ，４０Ｖ下调节，基体偏压为－１２０Ｖ），沉积时间选择在涂层厚度达到４μｍ为止．然后对获得的Ｗ－Ｃ－Ｍ（Ｍ＝Ｎｉ，Ｔｉ）涂层的化学成分、结构、形貌及抗氧化性能进行了研究． 结果表明，Ｗ－Ｃ－… |
| 关 键 词： | W－C－Ti涂层 磁控反应溅射 氧化 |
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