模板剂与工艺条件对减反射玻璃光透过率的影响 |
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作者姓名: | 赵军 张红凯 薛明俊 叶久祥 张艺博 李瑾雯 |
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作者单位: | 华东理工大学 材料科学与工程学院,上海200237 |
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摘 要: | 用溶胶-凝胶法制备了含有四种不同模板剂的镀液,通过浸渍镀膜法在玻璃上制膜,并采用不同热处理工艺制得镀膜玻璃。对各种玻璃进行光透过率比较,发现用P65模板剂的镀膜玻璃光透过率最高,在400~800 nm光波长范围内平均光透过率最大;玻璃基片最合适的提拉速度是40 mm/min,最佳的热处理温度和时间分别为500℃和10 min。由原子力显微镜(AFM)观察发现,优化条件下所制的膜层平整,采用百格法测得玻璃镀膜层具有较好的硬度。
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关 键 词: | 减反射 玻璃 模板剂 工艺条件 光透过率 |
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