| 吐温80─H_2O_2化学发光新体系测定痕量lr（Ⅳ） |
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| 引用本文： | 韩鹤友,罗庆尧,余席茂.吐温80─H_2O_2化学发光新体系测定痕量lr（Ⅳ）[J].贵金属,1994(3). |
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| 作者姓名： | 韩鹤友 罗庆尧 余席茂 |
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| 作者单位： | 武汉大学化学系，安徽省淮南师专化学系 |
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| 摘 要： | 建立了吐温８０─Ｎ＿２Ｏ＿２体系测定痕量铱的新的化学发光分析法，方法的检测限为３．０×１０￣（－９）ｇ／ｍｌ；线性范围为１．０×１Ｏ￣（－８）～１．０×１０￣（－５）ｇ／ｍｌ；测定１００ｐｐｂ铱溶液的相对标准偏差为６．５％。
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| 关 键 词： | 铱，吐温80，化学发光分析 |
Stuby on New Tween-80-H_2O_2 Cheminescence System for Determination of Trace lridium |
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| Han Heyou, LuoQingyao and Yu Ximao.Stuby on New Tween-80-H_2O_2 Cheminescence System for Determination of Trace lridium[J].Precious Metals,1994(3). |
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| Authors: | Han Heyou LuoQingyao and Yu Ximao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Iridium Tween-80 Chemiluminescence analysis |
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