| 用于窄带滤光片的离子辅助沉积硅膜层的性能 |
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| 引用本文： | 陈彤 卢进军. 用于窄带滤光片的离子辅助沉积硅膜层的性能[J]. 西安工业大学学报, 2006, 26(3): 242-245 |
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| 作者姓名： | 陈彤 卢进军 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院 西安710032 |
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| 摘 要： | 为了简化窄带光学滤波器的结构,需要寻求更高折射率的膜层材料.采用宽束冷阴极离子源的离子束辅助沉积工艺实验,分析了工艺参数与硅膜层折射率之间的关系,获得了对波长1550 nm折射率在3.45~3.46之间、消光系数小于10-6的硅膜层.使用实验得到的硅膜层和二氧化硅组合,设计了有71层膜层、信道间隔为200GHz的光学滤波器,峰值插入损耗0.18 dB,0.5 dB处的波长带宽为0.86 nm,0.25 dB处的波长带宽为1.91 nm,通带波纹系数ξ=0.12 dB,满足国际通信联盟(ITU)对密集波分复用系统(DWDM)用窄带滤波器的要求.
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| 关 键 词： | 密集波分复用 光学滤波器 离子辅助沉积 硅膜层 折射率 |
| 文章编号： | 1000-5714（2006）03-242-04 |
| 收稿时间： | 2006-04-06 |
| 修稿时间： | 2006-04-06 |
The Properties of Silicon Layer Prepared by Ion-assisted-deposition for Narrow Band Pass Filter |
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| CHEN Tong, LU Jin-jun. The Properties of Silicon Layer Prepared by Ion-assisted-deposition for Narrow Band Pass Filter[J]. Journal of Xi'an Institute of Technology, 2006, 26(3): 242-245 |
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| Authors: | CHEN Tong LU Jin-jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | dens wavelength division multiplexing optical filter ion-assisted-deposition silicon film refractive index. |
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