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| 光刻版图形处理过程的计算机仿真 | |
| 引用本文： | 粟鹏义,陈开盛,曹庄琪. 光刻版图形处理过程的计算机仿真[J]. 微纳电子技术, 2004, 41(11): 43-45 |
| 作者姓名： | 粟鹏义 陈开盛 曹庄琪 |
| 作者单位： | 1. 上海光刻电子科技有限公司,上海,200233;上海交通大学,上海,200030 2. 上海光刻电子科技有限公司,上海,200233 3. 上海交通大学,上海,200030 |
| 基金项目： | 上海市科委光科技专项行动计划项目资助(022261050) |
| 摘 要： | 采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理。将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换。该模型已应用于光刻版数据处理的电子设计自动化软件。 |
| 关 键 词： | 仿真 有限状态机 光刻版 电子设计自动化 集成电路 |
| 文章编号： | 1671-4776(2004)11-0043-03 |
| 修稿时间： | 2004-05-27 |
Computer simulation for photomask pattern processing |
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| SU Peng-yi,,CHEN Kai-sheng,CAO Zhuang-qi. Computer simulation for photomask pattern processing[J]. Micronanoelectronic Technology, 2004, 41(11): 43-45 | |
| Authors: | SU Peng-yi CHEN Kai-sheng CAO Zhuang-qi |
| Affiliation: | SU Peng-yi1,2,CHEN Kai-sheng1,CAO Zhuang-qi2 |
| Abstract: | The finite state machine model is applied to the computer simulation of photomask pattern processing,covering layer adjustment,sizing and reserve. The process procedures are defined as status while the requirements in the tooling form are defined as input conditions to trigger status transfer. An electronic design automatic software based on this model is developed to hold the data handling of photomask. |
| Keywords: | simulation FSM photomask EDA IC |
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