络合均相法生产H2WO4的除硅条件对其沉淀率的影响 |
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引用本文: | 蒋安仁,倪哲明.络合均相法生产H2WO4的除硅条件对其沉淀率的影响[J].稀有金属,1989,13(1):1-4. |
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作者姓名: | 蒋安仁 倪哲明 |
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作者单位: | 复旦大学
(蒋安仁,倪哲明,宫可印),复旦大学(庞震) |
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摘 要: | 络合均相法可在室温和低酸度下生产 H_2WO_4。在 pH=9.4的正常情况下除硅,H_2WO_4的沉淀率可大于98%。如按传统工艺在 pH=8~9除硅,沉淀率仅85%左右。经研究发现,在 pH=8~9时,溶液中部分 Na_2WO_4形成仲钨酸 A,仲钨酸 A 在加热和 H_2SiO_3的催化作用下转变成不能用络合均相法沉淀 H_2WO_4的仲钨酸 B,从而使 H_2WO_4沉淀率明显下降。因此,选择较高的pH 除硅是获得高的 H_2WO_4沉淀率的一个重要条件。
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关 键 词: | H2WO4 络合均相法 除硅 沉淀率 |
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