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多弧离子镀TiN涂层工艺及相结合
作者姓名:叶卫平 许大庆
作者单位:[1]武汉汽车工业大学材料系 [2]华中理工大学
摘    要:探讨了多弧离子镀技术中预轰击时间,氮分压和靶电流等对高速钢TiN涂层的影响,结果表明,在不同的工艺条件下,TiN涂层的相结构组成基本相同,但相对量不一样。当氮分压降低时或当预轰击时间延长时,涂层的硬度增大,耐磨性能改善。当靶电流减小时,涂层的硬度和耐磨性能降低。

关 键 词:多弧离子镀 刀具 氮分压 靶电流 氮化钛涂层
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