| 等离子体选址液晶显示技术（PALCD） |
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| 引用本文： | 樊卫华 彭辉. 等离子体选址液晶显示技术（PALCD）[J]. 光电子技术, 1999, 19(1): 31-40 |
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| 作者姓名： | 樊卫华 彭辉 |
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| 作者单位： | 南京电子器件研究所!210016 |
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| 摘 要： | 介绍了等离子体选址液晶显示的研发历史、主要特点、基本原理和制造工艺，对其中一些关键技术和问题进行了讨论，最后分析了其应用市场。
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| 关 键 词： | 等离子体 选址液晶 PALC 选址能力 发光效率 |
Plasma Addressed LCD (PALCD) |
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| Fan Weihua Peng Hui. Plasma Addressed LCD (PALCD)[J]. Optoelectronic Technology, 1999, 19(1): 31-40 |
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| Authors: | Fan Weihua Peng Hui |
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| Abstract: | The R & D history, main properties,principle and fabrication process of PALCD are discribed, and some of the key technologies and problems of PALCD are discussed as well. The application and market are analyzed in the end of the paper. |
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| Keywords: | plasma addressed LCD(PALCD) address ability luminous effecience |
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