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大功率GaN器件接地特性与稳定性研究
引用本文:孙引进,顾颖言,蔡晓波,谢 宁,蒋拥军.大功率GaN器件接地特性与稳定性研究[J].微波学报,2022,38(1):62-65.
作者姓名:孙引进  顾颖言  蔡晓波  谢 宁  蒋拥军
作者单位:中国电子科技集团公司第十四研究所,南京 210039
摘    要:GaN器件的工艺和技术进步,将输出功率提高到数百瓦甚至数千瓦量级。但是,大功率GaN器件相应的使用规范和标准,如接地要求,在仿真设计和工程应用中一直没有明确。文章针对大功率GaN 器件的接地特性进行分析,通过仿真和试验验证了超大功率GaN 器件功放电路中,接地条件对电路自身稳定性的重要性。明确了大功率和超大功率GaN 器件的接地阻抗<1 mΩ 使用标准,同时对接地金属接触表面的长期可靠性做出要求。

关 键 词:GaN器件  大功率  接地特性  接触电阻  稳定性

Research on the Ground Situation and Stability of Highly Output Power GaN Device
SUN Yin-jin,GU Yin-yan,CAI Xiao-bo,XIE Ning,JIANG Yong-jun.Research on the Ground Situation and Stability of Highly Output Power GaN Device[J].Journal of Microwaves,2022,38(1):62-65.
Authors:SUN Yin-jin  GU Yin-yan  CAI Xiao-bo  XIE Ning  JIANG Yong-jun
Affiliation:The 14th Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation, Nanjing 210039, China
Abstract:
Keywords:GaN device  high output power  ground situation  contact resistance  stability
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