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| 化学束外延 | |
| 引用本文： | 谢诗菁.化学束外延[J].微细加工技术,1991(2):72-75. |
| 作者姓名： | 谢诗菁 |
| 作者单位： | 机械电子工业部第48研究所 长沙 |
| 摘 要： | 本文介绍了化学束外延(CBE)的发明和发展,论述了CBE的原理和设备。文中还介绍了最近提出的一种生长机理。 |
| 关 键 词： | 化学束外延 化合物半导体 薄膜 |
CHEMICAL BEAM EPITAXY |
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| Xie Shijing.CHEMICAL BEAM EPITAXY[J].Microfabrication Technology,1991(2):72-75. | |
| Authors: | Xie Shijing |
| Abstract: | |
| Keywords: | Film growth CBE(Chemical Beam Epitaxy) |
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