磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能 |
| |
作者单位: | 韩增虎(上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030);田家万(上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030);李戈扬(上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030);唐建毅(上海交通大学国家教育部高温材料及高温重点实验室,上海,200030) |
| |
摘 要: | 通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能.结果表明,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度(42.5GPa)和杨氏模量(300 GPa),薄膜呈现非晶或纳米晶特征.随基片温度的提高,薄膜略有晶化,硬度与杨氏模量相应增加到50.4GPa和420 GPa.
|
关 键 词: | B4C薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射 |
文章编号: | 0253-9748(2002)01-0045-04 |
修稿时间: | 2001-03-27 |
Preparation and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered B4C ThinFilm |
| |
Abstract: | |
| |
Keywords: | |
|
|