添加剂对锡–银–铜共沉积的影响 |
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引用本文: | 伏广好,鲁浩,尹丽,贺岩峰.添加剂对锡–银–铜共沉积的影响[J].电镀与涂饰,2014(1). |
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作者姓名: | 伏广好 鲁浩 尹丽 贺岩峰 |
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作者单位: | 长春工业大学化学工程学院; |
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摘 要: | 通过测定循环伏安曲线、镀层表面形貌和X射线衍射谱图,研究了单一的烷基糖苷(APG)或APG+槲皮素的组合添加剂对Sn–Ag–Cu三元合金共沉积的影响。镀液的基础组成和工艺条件为:Sn(CH3SO3)20.18 mol/L,Ag2O 0.006 mol/L,Cu(CH3SO3)20.001 2 mol/L,硫脲0.06 mol/L,羧乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)1.0 mol/L,pH 5.0,温度25°C,电流密度6.6 mA/cm2,时间30 min。结果表明,镀液中APG或APG+槲皮素的存在使锡离子的扩散系数减小,Sn–Ag–Cu三元合金的共沉积过程受阻。镀液中加入1.00 g/L APG或1.00 g/L APG+0.05 g/L槲皮素后,Sn–Ag–Cu镀层外观改善,镀层结晶细致、均匀,晶面择优取向由Sn(211)转变为Sn(200)。因此,APG或APG与少量槲皮素的组合适合用作Sn–Ag–Cu共沉积的添加剂。
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关 键 词: | 锡–银–铜合金 共沉积 添加剂 烷基糖苷 槲皮素 |
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