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透射电镜原位研究Ni纳米晶粒成核生长
引用本文:蒋昌忠,陈海波,石英,付强.透射电镜原位研究Ni纳米晶粒成核生长[J].电子显微学报,2002,21(5):623-624.
作者姓名:蒋昌忠  陈海波  石英  付强
作者单位:武汉大学物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (10 0 0 5 0 0 5 )
摘    要:离子注入能够精确地控制能量和剂量 ,能够注入几乎所有的元素 ,甚至同位素 ,而且注入离子形成的纳米晶粒镶嵌在衬底里 ,使得形成的纳米颗粒得到了很好的保护。近年来 ,离子注入绝缘衬底材料形成量子点结构成为研究的热点。随着离子注入技术和工艺的不断改善 ,该方法在工业应用中成本越来越低 ,相信会在今后的材料制备中得到更广泛的应用。本研究在法国核谱质谱中心 (CNSNM)的离子注入机和透射电镜联机装置上进行1] ,衬底材料是用电子束蒸发沉积而形成的非晶SiO2 薄膜 ,厚度在 90~ 10 0nm。选取适当的注入能量使注入离子的投影射…

关 键 词:Ni  纳米晶粒  成核生长  镍离子注入  衬底材料  原位透射电镜

In situ TEM investigation of the nucleation and growth of nickel nanocrystals
Abstract:
Keywords:
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