透射电镜原位研究Ni纳米晶粒成核生长 |
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引用本文: | 蒋昌忠,陈海波,石英,付强. 透射电镜原位研究Ni纳米晶粒成核生长[J]. 电子显微学报, 2002, 21(5): 623-624 |
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作者姓名: | 蒋昌忠 陈海波 石英 付强 |
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作者单位: | 武汉大学物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目 (10 0 0 5 0 0 5 ) |
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摘 要: | 离子注入能够精确地控制能量和剂量 ,能够注入几乎所有的元素 ,甚至同位素 ,而且注入离子形成的纳米晶粒镶嵌在衬底里 ,使得形成的纳米颗粒得到了很好的保护。近年来 ,离子注入绝缘衬底材料形成量子点结构成为研究的热点。随着离子注入技术和工艺的不断改善 ,该方法在工业应用中成本越来越低 ,相信会在今后的材料制备中得到更广泛的应用。本研究在法国核谱质谱中心 (CNSNM)的离子注入机和透射电镜联机装置上进行[1] ,衬底材料是用电子束蒸发沉积而形成的非晶SiO2 薄膜 ,厚度在 90~ 10 0nm。选取适当的注入能量使注入离子的投影射…
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关 键 词: | Ni 纳米晶粒 成核生长 镍离子注入 衬底材料 原位透射电镜 |
In situ TEM investigation of the nucleation and growth of nickel nanocrystals |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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