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| 溅射气体和基板偏压对溅射Al_2O_3薄膜内应力和密度的影响 | |
| 引用本文： | 章吉良,李明,杨春生,赵小林,宋柏泉.溅射气体和基板偏压对溅射Al_2O_3薄膜内应力和密度的影响[J].真空科学与技术学报,1996(1). |
| 作者姓名： | 章吉良 李明 杨春生 赵小林 宋柏泉 |
| 作者单位： | 上海交通大学信息存储研究中心!上海200030 |
| 摘 要： | 在纯Ar和Ar＋10％O2两种工作气体及不同基极偏压条件下，用射频溅射方法制备了Al2O3薄膜，测量了每个样品的内应力和密度，并对部分样品用X射线光电子谱进行了结构分析。结果表明，薄膜呈非晶态，薄膜的内应力均为压应力，并给出了气体种类和们压对膜的密度和应力的影响。 |
| 关 键 词： | 射频溅射 Al_2O_3薄膜 内应力 密度 |
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