掺氟复合磨料的制备及对单晶硅抛光性能的影响 |
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引用本文: | 周新木,岑志军,李静,彭欢,李永绣.掺氟复合磨料的制备及对单晶硅抛光性能的影响[J].稀土,2012(6):1-4. |
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作者姓名: | 周新木 岑志军 李静 彭欢 李永绣 |
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作者单位: | 南昌大学化学系 |
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基金项目: | 国家863计划项目资助(2010AA03A407,2010AA03A408) |
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摘 要: | 含氟的复合磨料在工业上已广泛应用,利用X-射线衍射、扫描电镜、激光粒度仪和原子力显微镜等测试手段,比较了不同掺氟方式和氟源得到含氟复合磨料的物性,以及对单晶硅的抛光效果和抛光表面性能的影响。结果表明,在80℃共沉淀、以掺氟量为7%掺入氟化物及1000℃下煅烧所得复合磨料具有较低的振实密度、粒度均匀的球型粒子,复合磨料中CeLa2O3F3含量相对较高,用于单晶硅的抛光可以得到较好的抛光表面性能;碳酸稀土直接喷撒氢氟酸在同等煅烧下制得复合磨料其抛光速率较高,但抛光表面性能较差。
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关 键 词: | 复合磨料 单晶硅 化学机械抛光 |
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