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316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究
引用本文:冯军,童洪辉,金凡亚,陈美艳,赖新春.316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究[J].金属热处理,2015(1):111-115.
作者姓名:冯军  童洪辉  金凡亚  陈美艳  赖新春
作者单位:1. 核工业西南物理研究院,四川成都 610041; 南华大学电气工程学院,湖南衡阳 421001
2. 核工业西南物理研究院,四川成都,610041
3. 四川材料与工艺研究所,四川江油,621700
基金项目:ITER计划国内配套专项课题(2013GB110006);国家自然科学基金
摘    要:采用直流磁控溅射在316L不锈钢上制备了高质量的Al膜,并利用扫描电镜、X射线衍射仪分别对镀层的形貌和结构及应力进行了分析。结果表明,温度、溅射功率之间的合理配置才能制备致密性高、表面缺陷少的Al膜,较优工艺参数温度为170℃、溅射功率1400 W;温度比溅射功率更容易改善结晶度,当溅射功率高、基体温度低,薄膜趋向非晶态;制备的薄膜应力小,最大约为0.176 GPa,微结构对应力影响大。

关 键 词:铝膜  316L不锈钢  直流磁控溅射  结晶度  致密性  残余应力

Aluminum thin film deposited on 316 L stainless steel by DC magnetron sputtering
Feng Jun,Tong Honghui,Jin Fanya,Chen Meiyan,Lai Xinchun.Aluminum thin film deposited on 316 L stainless steel by DC magnetron sputtering[J].Heat Treatment of Metals,2015(1):111-115.
Authors:Feng Jun  Tong Honghui  Jin Fanya  Chen Meiyan  Lai Xinchun
Affiliation:Feng Jun;Tong Honghui;Jin Fanya;Chen Meiyan;Lai Xinchun;Southwestern Institute of Physics;College of Electrical Engineering,University of South China;Sichuan Institute of Materials and Technology;
Abstract:
Keywords:aluminum thin film  316L stainless steel  DC magnetron sputtering  crystallinity  density  residual stress
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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