DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能 |
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引用本文: | 高倩,李喆,李铭,刘涌,宋晨路,韩高荣.DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能[J].材料科学与工程学报,2012,30(1):93-97. |
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作者姓名: | 高倩 李喆 李铭 刘涌 宋晨路 韩高荣 |
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作者单位: | 浙江大学材料科学与工程学系,硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027 |
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基金项目: | 国家科技支撑计划资助项目 |
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摘 要: | 采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。
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关 键 词: | TiO2薄膜 介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD) 表面微观结构 掺N 光催化性 亲水性 |
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