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DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能
引用本文:高倩,李喆,李铭,刘涌,宋晨路,韩高荣.DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能[J].材料科学与工程学报,2012,30(1):93-97.
作者姓名:高倩  李喆  李铭  刘涌  宋晨路  韩高荣
作者单位:浙江大学材料科学与工程学系,硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027
基金项目:国家科技支撑计划资助项目
摘    要:采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。

关 键 词:TiO2薄膜  介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)  表面微观结构  掺N  光催化性  亲水性
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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