| 复合剪切力场下纳米SiO_2的制备及原位改性 |
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| 引用本文： | 刘跃军,刘亦武,魏珊珊,阙永生.复合剪切力场下纳米SiO_2的制备及原位改性[J].硅酸盐学报,2010,38(6). |
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| 作者姓名： | 刘跃军 刘亦武 魏珊珊 阙永生 |
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| 作者单位： | 湖南工业大学包装新材料与技术重点实验室,湖南,株洲,412007 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，湖南省杰出青年基金，湖南省科技计划，湖南工业大学研究生创新基金 |
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| 摘 要： | 以工业硅酸钠为前驱物、盐酸为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂、硅烷偶联剂为改性剂,在复合剪切力场下,用化学沉淀法制备纯纳米二氧化硅(SiO2)和原位改性纳米SiO2,并进行放大实验。分析复合剪切力场下纳米SiO2的形成过程以及不同剪切力场、进料方式等对纳米SiO2型貌的影响。用Fourier红外光谱、透视电子显微镜、热重分析及粒径分析仪等对产品进行表征,结果表明:在复合剪切力场下制备的纳米SiO2的形貌近似为球形、平均粒径为19.5nm且粒径分布窄,原位改性纳米SiO2的分散效果良好。
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| 关 键 词： | 纳米二氧化硅 复合剪切力场 原位改性 |
PREPARATION AND IN-SITU MODIFICATION OF NANOSILICA UNDER MULTIPLE SHEAR FORCE FIELD |
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| LIU Yuejun,LIU Yiwu,WEI Shanshan,QUE Yongsheng.PREPARATION AND IN-SITU MODIFICATION OF NANOSILICA UNDER MULTIPLE SHEAR FORCE FIELD[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2010,38(6). |
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| Authors: | LIU Yuejun LIU Yiwu WEI Shanshan QUE Yongsheng |
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