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| 化学气相沉积 | |
| 作者姓名： | 田民波 |
| 作者单位： | 清华大学工程物理系 |
| 摘 要： | 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是利用化学反应由气相生长固体物质的方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为CVD反应。通常CVD要利用高温或其它激活方法,依靠化学反应制取所需要的薄厚膜。 |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 CVD 半导体 |
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