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石墨及其涂层材料性能的研究
引用本文:王明旭,朱毓坤.石墨及其涂层材料性能的研究[J].四川真空,1996(2):13-20.
作者姓名:王明旭  朱毓坤
摘    要:本文在改制后的LAS-2000表面分析设备上对SMF800,G3石墨和(SiC+C)/C涂层石墨的真空出气性能和D^+束辐照化学增强腐蚀性能进行了分析研究。研究表明:HL-1M装置第一壁选择SMF800石墨及其处理工艺及合理,正确的。

关 键 词:石墨  第一壁  涂层  托卡马克装置  碳化硅
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