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常压下制备氮化硅陶瓷材料的研究
引用本文:刘国玺,赵昆渝,李智东,马秋花,葛伟萍. 常压下制备氮化硅陶瓷材料的研究[J]. 机械工程材料, 2004, 28(11): 22-24
作者姓名:刘国玺  赵昆渝  李智东  马秋花  葛伟萍
作者单位:昆明理工大学材料与冶金工程学院,云南昆明,650093
基金项目:云南省应用基础资助项目(2002E0021M)
摘    要:研究了以硅粉为原料,以碳粉、氧化铝和氧化钇作添加剂,在常压下,采用反应烧结工艺制备氮化硅陶瓷。结果表明:在1380℃下,加入2%Al2O3 8%Y2O3,在氮气气氛中可得到以B—Si3N4为主的氮化硅陶瓷。

关 键 词:氮化硅 反应烧结 添加剂
文章编号:1000-3738(2004)11-0022-03

Preparation of Silicon Nitride Ceramic Materials under Normal Pressure
LIU Guo-xi,ZHAO Kun-yu,LI Zhi-dong,MA Qiu-hua,GE Wei-ping. Preparation of Silicon Nitride Ceramic Materials under Normal Pressure[J]. Materials For Mechanical Engineering, 2004, 28(11): 22-24
Authors:LIU Guo-xi  ZHAO Kun-yu  LI Zhi-dong  MA Qiu-hua  GE Wei-ping
Abstract:
Keywords:silicon nitride  reaction sintering  additive
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