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Ag—MgF2金属陶瓷薄膜氧化的XPS研究
引用本文:孙大明,孙兆奇.Ag—MgF2金属陶瓷薄膜氧化的XPS研究[J].真空科学与技术,1999,19(10):229-233.
作者姓名:孙大明  孙兆奇
作者单位:安徽大学物理系
摘    要:报道了对Ag-MgF2金属陶瓷薄膜在具空中退火时氧化现象的XPS分析结果。在低真空中(p〈30pa),当退火温度为800℃时,MgIs光电子结合能为1305.40eV,属于MgF2结构,当退火温度达到1100℃时,Mg1s光电子结合能国1303.75eV,属于MgO结构。从Ag-MgF2体系转变为Ag-MgO体系Mg1s光电子结合能向低能一侧位移了1.65eV。

关 键 词:金属陶瓷薄膜  氧化  化学位移  XPS分析    氟化镁
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