Ag—MgF2金属陶瓷薄膜氧化的XPS研究 |
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作者姓名: | 孙大明 孙兆奇 |
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作者单位: | 安徽大学物理系 |
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摘 要: | 报道了对Ag-MgF2金属陶瓷薄膜在具空中退火时氧化现象的XPS分析结果。在低真空中(p〈30pa),当退火温度为800℃时,MgIs光电子结合能为1305.40eV,属于MgF2结构,当退火温度达到1100℃时,Mg1s光电子结合能国1303.75eV,属于MgO结构。从Ag-MgF2体系转变为Ag-MgO体系Mg1s光电子结合能向低能一侧位移了1.65eV。
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关 键 词: | 金属陶瓷薄膜 氧化 化学位移 XPS分析 银 氟化镁 |
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