工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究

在不同的工艺参数条件下，采用磁控溅射技术制备大量的ＴｉＮ膜样品。通过对实验结果的仔细分析，得出了膜层颜色与氩气分压无关，而与溅射功率和氮气分压的经值有关的结论，并得到了微观结构分析的证实。对磁控溅射法制备ＴｉＮ膜技术具有一定的参考价值。